半导体材料

ALD 和离子注入工艺固态前驱体

随着半导体行业的发展,对替代材料的需求将继续增长。Materion与行业领导者合作开发和制造用于原子层沉积(ALD)和离子注入工艺的定制前驱体材料。

Materion专注于先进半导体应用的固态前驱体,包括:

  • 先进存储
    • 3D NAND flash
    • DRAM
  • 半导体功率器件


半导体应用的ALD材料

Aluminum Chloride,
AlCl3

Antimony Oxide,
Sb2O3

Molybdenum Oxychloride, 
MoO2Cl2

Aluminum Iodide,
AlI3

Molybdenum Chloride, MoCl5

Hafnium Chloride,
HfCl4

*其他材料可依据需求提供.

数十年化学专业知识和能力

Materion是无机化学品的领先供应商,在处理、合成和定制复杂材料方面拥有无与伦比的专业知识。我们的广泛的能力使我们能够开发满足领先制造商要求的严格规格的定制组合物。

  • ISO 17025 认可的实验室进行的广泛的内部测试
  • 定制制造:合成,加工,分析
  • 定制颗粒度,纯度和包装
  • 空气和湿度敏感材料的制造和加工
  • 从开发样品到量产的全生产能力

Benefits

  • 进60年的制造和供应无机化学品的专业知识
  • ISO-17025认可实验室的内部分析测试
  • 材料定制以满足独特和定制的客户需求
  • 新工厂增加新产品开发的能力和产能
  • 处理/合成和定制复杂材料的专家
  • 材料从研发到量产的能力
  • 一个由化学家/工程师和产品专家组成的专业团队

Applications

  • 先进存储
    • 3D NAND flash
    • DRAM
  • 半导体功率器件
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